Im Produktionsraum gilt: Jede Abweichung von 0,5 °C in der Backtemperatur kann dazu führen, dass kritische Abmessungen um Nanometer verändert werden – was wiederum dazu führt, dass viele Produkte als Ausschuss gelten. Was man also braucht, ist eine Heizung, die von Zyklus zu Zyklus konstant bleibt – selbst unter den Bedingungen eines Reinraums, mit bestimmter Wafergeometrie sowie festgelegten Lithografieprozessen.
Was wirklich wichtig ist
Wir haben das System so konzipiert, dass es Infrarotquellen mit präzise gesteuertem Spektrumausgang verwendet – dadurch erfolgt eine schnelle, kontaktlose Erwärmung. Über die gesamte Fläche des Wafers bleibt die thermische Homogenität bei ±0,1 °C, und auch die Wiederholgenauigkeit der Einstellungen liegt im gleichen Bereich. Das Design eignet sich für Reinräume der Klassen 1–100. Zudem wird durch die Heizzone die Teilchengenerierung auf ein Minimum reduziert. Sowohl sanfte als auch intensive Erwärmungsverfahren können mit präziser Temperaturregelung durchgeführt werden – dadurch bleiben die Linienbreiten konstant und Fehler werden minimiert.
Warum das in der Lithografie wichtig ist
In Lithografieverfahren ermöglicht das Infrarotlicht eine schnelle Erwärmung sowie eine geringe thermische Trägheit. Dadurch verkürzen sich die Umstellzeiten und die Produktivität bleibt hoch. Die Plattform kann 24/7 ohne unplanmäßige Stillstände betrieben werden. Der Energieverbrauch sinkt dank effizienter Steuerung und minimalem Standby-Verlust. So bleibt die Kontrolle über die kritischen Abmessungen stabil, es entstehen weniger Produkte, die neu bearbeitet werden müssen – und das Ergebnis ist vorhersehbar – ohne dass man die bestehenden Prozessanleitungen ändern muss.
Was man berücksichtigen muss
Bei der Installation muss man sicherstellen, dass die Abzugssysteme, der Gaszulauf sowie die Anschlüsse zum Produktionsraum richtig integriert werden. Wir liefern die notwendigen Schnittstellenpläne und kümmern uns um die Inbetriebnahme. Da das Infrarotlicht direkt erwärmt, können Unterschiede in der Emittanz der verschiedenen Schichten die lokale Reaktion beeinflussen. Der Controller kompensiert das, doch man muss den Prozess trotzdem für neue Schichten anpassen. Nach einer Qualifizierungsphase kann die Plattform als standardkonformes Heizsystem genutzt werden.