Deje de calentar las paredes de la cámara
Si alguna vez ha trabajado con sistemas de calefacción convencionales o omnidireccionales en una cámara de semiconductores, seguramente conoce bien esa frustración. Se intenta calentar el wafer, pero al final se calienta todo, excepto el propio wafer. Las paredes interiores se calientan mucho, el chasis del equipo también se daña, y los operarios se encuentran en una situación de riesgo constante. Es un desperdicio de energía y causa problemas para todos los involucrados.
Nosotros lo resolvemos de otra manera. Utilizamos lámparas infrarrojas dirigidas que envían la energía justo donde debe estar: directamente sobre el wafer.
Cómo funciona realmente
Imagínese un calentador resistivo: este dispersa el calor en todas direcciones, 360 grados. Es un sistema poco eficiente. Nuestras lámparas infrarrojas utilizan reflectores y ajustes de longitud de onda para dirigir la energía hacia el wafer. De esta manera, el flujo térmico se mantiene concentrado. El wafer alcanza la temperatura deseada, mientras que el resto de la máquina permanece fría.
Las desventajas y cómo solucionarlas
Estas lámparas de alta potencia son muy intensas. Funcionan rápidamente. Pero esa intensidad significa que no se puede descuidar el sistema de refrigeración. Si el alineamiento no es correcto o los reflectores se ensucian, el calor podría filtrarse nuevamente hacia las paredes. La clave está en ajustar perfectamente la distancia focal de las lámparas. Así, el calor permanecerá en el sustrato.
Qué significa esto en la práctica
En primer lugar, los sistemas de refrigeración de su planta no tendrán que trabajar tan duro. Además, se obtiene un perfil térmico mucho más preciso en todo el wafer, lo que mejora la uniformidad del proceso. Además, el mantenimiento se vuelve mucho más sencillo. No tendrá que luchar contra el calor residual que se acumula en las paredes interiores cuando necesite reparar algo.
Un consejo importante: asegúrese de que su fuente de alimentación pueda soportar la carga inicial. Estas lámparas alcanzan su potencia máxima casi instantáneamente. No se calientan lentamente como los antiguos elementos cerámicos.
Es necesario encontrar un equilibrio. Se logran ciclos más rápidos, pero será necesario ajustar los controladores PID para que respondan rápidamente, evitando así superar la temperatura deseada.