फैब फ्लोर पर, आपको तो पता ही है कि क्या करना है। बेकिंग तापमान में 0.5°C का भी बदलाव, उत्पादों के महत्वपूर्ण आयामों में नैनोमीटर स्तर पर परिवर्तन ला सकता है; इससे उत्पाद बेकार हो जाते हैं। ऐसी स्थिति में आवश्यक है कि तापमान हर चक्र में स्थिर रहे… चाहे क्लीनरूम में हवा का प्रवाह कितना भी हो, वेफरों की संरचना कैसी भी हो, एवं लिथोग्राफी प्रक्रिया कितनी भी जटिल हो।
वास्तव में क्या महत्वपूर्ण है?
हमने इस सिस्टम को नियर-इन्फ्रारेड (NIR) स्रोतों के आधार पर विकसित किया है… ताकि त्वरित एवं बिना संपर्क के ही गर्मी प्रदान की जा सके। वेफर पर तापीय समानता ±0.1°C के भीतर ही रहती है… एवं सेटपॉइंटों की पुनरावृत्ति भी इसी सीमा में ही होती है। यह डिज़ाइन क्लीनरूम क्लास 1–100 के लिए उपयुक्त है… एवं गर्मी प्रदान करने वाला क्षेत्र कणों के उत्पादन को लगभग शून्य पर ही रखता है। “सॉफ्ट बेक” एवं “हार्ड बेक” प्रक्रियाओं में भी तापीय नियंत्रण बेहतरीन रहता है… जिससे उत्पादों की गुणवत्ता बनी रहती है।
लिथोग्राफी में इसका क्या लाभ है?
लिथोग्राफी प्रक्रियाओं में इन्फ्रारेड के कारण तेज़ गर्मी प्राप्त होती है… एवं तापीय अपवर्तन भी कम होता है। इससे प्रक्रिया में बदलाव करने में समय कम लगता है… एवं उत्पादन भी जारी रहता है। यह प्लेटफॉर्म 24/7 काम करता है… बिना किसी अप्रत्याशित रुकावट के… एवं कुशल ऊर्जा-उपयोग के कारण ऊर्जा-खपत भी कम होती है। इससे उत्पादों के महत्वपूर्ण आयामों पर नियंत्रण बना रहता है… रीवर्किंग की आवश्यकता कम हो जाती है… एवं उत्पादन की गुणवत्ता भी बेहतर रहती है… बिना मौजूदा प्रक्रियाओं में कोई बदलाव किए।
क्या तैयारी करनी होगी?
स्थापना के लिए चेम्बर के एक्जॉस्ट सिस्टम, गैस आपूर्ति एवं अन्य आवश्यक सुविधाओं को ध्यान में रखना आवश्यक है। हम इंटरफेस ड्रॉइंगें प्रदान करते हैं… एवं सिस्टम को सक्रिय करने में भी मदद करते हैं। चूँकि इन्फ्रारेड प्रकाश सीधे ही गर्मी प्रदान करता है… इसलिए फिल्मों पर होने वाले अंतरों के कारण स्थानीय प्रतिक्रियाओं में बदलाव हो सकता है… लेकिन कंट्रोलर इसकी भरपाई कर देता है… फिर भी नए सेटअपों के लिए प्रक्रियाओं में थोड़ा समायोजन आवश्यक है। एक बार सिस्टम को सक्रिय करने के बाद… यह एक मानक-अनुरूप एवं विश्वसनीय तापीय प्लेटफॉर्म बन जाता है।