Di lantai pabrik, prosesnya sudah jelas: perubahan suhu sebesar 0,5°C saja sudah cukup untuk mengubah dimensi-dimensi kritis suatu benda hingga beberapa nanometer, sehingga benda tersebut menjadi tidak dapat digunakan lagi. Yang dibutuhkan adalah sistem pemanas yang konsisten, dari siklus ke siklusnya, meskipun kondisi udara di ruang bersih, geometri wafer, dan jadwal litografi terus berubah-ubah.
Apa yang penting dalam sistem ini? Kami merancang sistem ini menggunakan sumber sinar inframerah dekat (NIR) dengan spektrum emisi yang terkontrol dengan baik, sehingga memungkinkan pemanasan yang cepat tanpa kontak fisik. Di seluruh permukaan wafer, keseragaman suhu tetap di kisaran ±0,1°C, dan tingkat repetibilitas pengaturan suhu juga sangat baik. Sistem ini cocok digunakan di ruang bersih kelas 1–100, dan zona pemanasan mampu mengurangi pembentukan partikel hingga mendekati nol. Proses pemanasan dilakukan dengan kontrol suhu yang ketat, sehingga lebar garis pada wafer tetap konsisten dan cacatnya berkurang.
Mengapa hal ini penting dalam proses litografi? Dalam proses litografi, sinar inframerah membantu mempercepat proses pemanasan dan mengurangi inersia termal. Hal ini memperpendek waktu perpindahan antar proses produksi, sehingga efisiensi produksi meningkat. Sistem ini dapat beroperasi 24/7 tanpa henti, dan penggunaan energinya berkurang berkat efisiensi koneksi antar komponen serta minimnya kerugian saat sistem dalam keadaan idle. Dengan demikian, kontrol terhadap dimensi kritis suatu benda tetap stabil, jumlah produk yang harus diperbaiki berkurang, dan hasil produksinya lebih dapat diprediksi—tanpa perlu mengubah resep proses yang sudah ada.
Apa yang perlu dipersiapkan? Proses instalasi membutuhkan penyesuaian terhadap sistem ekstraksi udara, pasokan gas, serta antarmuka utilitas di pabrik. Kami menyediakan gambar-gambar antarmuka tersebut dan menangani proses pengoperasian sistemnya. Karena sinar inframerah memanaskan benda secara langsung, perbedaan emisivitas antar lapisan film dapat mempengaruhi respons lokalnya. Kontroler akan mengkompensasi hal tersebut, tetapi Anda tetap perlu menyesuaikan resep proses untuk lapisan-lapisan baru. Lakukan uji coba sekali saja untuk menentukan kurva pemanasan yang tepat, setelah itu sistem akan berfungsi sesuai standar yang ditetapkan.