팹 내에서는 잘 알려진 사실이 있습니다. 베이킹 온도가 0.5°C만 변해도 치명적인 치수 오차가 발생할 수 있으며, 그로 인해 많은 웨이퍼들이 폐기되고 맙니다. 따라서 청정실의 공기 흐름이나 웨이퍼의 형태, 리소그래피 공정의 속도와 같은 요인들에도 불구하고, 주기마다 일정한 온도를 유지할 수 있는 난방 시스템이 필요합니다.
중요한 것은 무엇인가? 저희는 정밀하게 제어된 스펙트럼을 가진 근적외선(NIR) 소스를 기반으로 이 시스템을 설계했습니다. 이를 통해 빠르고 비접촉식으로 가열이 가능합니다. 웨이퍼 전체에 걸쳐 온도 균일성은 ±0.1°C 수준을 유지하며, 설정된 온도도 일정하게 유지됩니다. 이 시스템은 청정실 등급 1~100에 적합하며, 가열 구역에서는 입자 생성을 거의 없앨 수 있습니다. 소프트 베이크와 하드 베이크 모드 모두에서 엄격한 온도 제어가 이루어져, 선의 너비가 일정하게 유지되고 결함도 줄어듭니다.
리소그래피 공정에서의 장점 리소그래피 공정에서는 근적외선을 사용하면 빠른 가열이 가능하며 열 저항도 낮아집니다. 그 결과 공정 전환 시간이 단축되고 생산성이 향상됩니다. 이 시스템은 24/7 연속 가동이 가능하며, 효율적인 에너지 관리 덕분에 에너지 소비도 줄어듭니다. 기존의 공정 방식을 그대로 유지하면서도 안정적인 치수 제어가 가능해지고, 재작업 비용도 줄어들며, 생산성도 예측 가능해집니다.
계획해야 할 사항 설치 시에는 챔버의 배기 시스템, 가스 공급 시스템, 그리고 팹의 기타 장비들과의 연동을 고려해야 합니다. 저희는 관련된 인터페이스 도면을 제공하고 시스템 설치도 담당합니다. 근적외선은 직접적으로 가열하기 때문에, 다양한 필름들 사이의 복사율 차이로 인해 지역별로 온도가 달라질 수 있습니다. 컨트롤러가 이를 보정해주지만, 새로운 필름 조합에 맞게 설정 값을 조정하는 것이 필요합니다. 한 번의 테스트를 통해 최적의 가열 곡선을 확인한 후에는, 표준에 부합하는 안정적인 가열 시스템이 됩니다.