Üretim alanında, işlemlerin nasıl yürütüldüğünü biliyorsunuzdur. Pişirme sıcaklığında 0,5°C’lik bir değişiklik bile kritik boyutları nanometrelerle değiştirebilir ve bu da ürünlerin atık haline gelmesine neden olabilir. İhtiyacınız olan şey, temiz oda havalandırması, wafer’in geometrisi ve litografi süreçleri gibi faktörlerin etkisinde bile her seferinde sabit kalan bir ısıdır.
Sistemin iç yapısı Sistemi, mühendisliksel olarak optimize edilmiş spektral çıkışa sahip yakın kızılötesi (NIR) kaynaklar kullanarak geliştirdik. Böylece hızlı ve temas gerektirmeyen bir ısıtma sağlanıyor. Wafer’in tüm yüzeyinde termal düzenlilik ±0,1°C civarında tutuluyor ve ayar noktasının tekrarlanabilirliği de aynı aralıkta kalıyor. Bu tasarım, 1–100 sınıfı temiz odalar için uygundur ve ısıtma bölgesi parçacık oluşumunu neredeyse sıfıra indirir. Yumuşak ve sert pişirme işlemleri sırasında sıkı termal kontrol sağlanır; bu sayede hat genişliği sabit kalır ve kusurlar azalır.
Litografideki önemi Litografi süreçlerinde kızılötesi ışınlar hızlı ısınmayı ve düşük termal direnci sağlar. Bu da ürün değiştirme sürelerini kısaltır ve üretim verimliliğini artırır. Platform 7/24 çalışır ve plansız duruşlar olmaz. Verimli bağlantılar ve minimum bekleme enerjisi sayesinde enerji tüketimi azalır. Mevcut işlem prosedürlerinizi değiştirmeden istikrarlı kritik boyut kontrolü, daha az yeniden işleme gereksinimi ve öngörülebilir verimlilik elde edilir.
Planlamanız gerekenler Montaj işlemi, odanın havalandırma sistemi, gaz tedariki ve diğer altyapı unsurlarıyla uyumlu hale getirilmeyi içerir. Arayüz çizimlerini biz sağlıyoruz ve kurulum işlemlerini biz üstleniyoruz. Kızılötesi ışınlar doğrudan ısıtma yaptığı için, farklı filmlerdeki emisivite farkları yerel tepkileri etkileyebilir. Kontrol cihazı bunu telafi eder, ancak yeni malzemeler için prosedürleri ayarlamanız gerekebilir. Pişirme eğrisini belirlemek için bir kez test yapılmalıdır; bundan sonra sistem standartlara uygun ve güvenilir bir şekilde çalışır.