На виробничому майданчику дрейф температури на 0,3°C під час випікання фотореактиву достатній, щоб перетворити велику партію у брак. Ви вже контролюєте однорідність CD, профіль резисту і кількість часток, а теплова змінність продовжує знижувати вихід продукції та час безвідмовної роботи. Ми розробили лазерний діодний нагрівач для напівпровідникових лазерів, щоб усунути цей дрейф в його джерелі.
Технічні характеристики
Пристрій поєднує лазерний діодний джерело з оптимізованим тепловим шаром для досягнення рівня однорідності температури wafer ±0,1°C по поверхні випікання. Час реагування менше 300 мс, отже температура швидко стабілізується після відкриття або закриття дверцят, а повторюваність від запуску до запуску підтримується в межах ±0,05°C. Корпус нагрівача виконаний із кварцу та кераміки високої чистоти без випаровування в’яжучих речовин, він працює стабільно в середовищах класу чистоти 1–100, підтримуючи генерацію часток нижче 0,1 частки/см². Пристрій з замкненим контуром, оснащений каліброваним датчиком, розподіленим по кількох зонах, що дозволяє застосовувати компенсацію за рецептом для ефектів на краях.
Ось чому він витримує умови літографії. М’яке та жорстке випікання встановлюють в’язкість резисту, адгезію та критичний розмір (CD). Коли тепловий бюджет стабільний, розподіл CD стає точнішим, зменшуються виправлення і відходи через зрощення або утворення кромок.
Така стабільність також знижує непланові зупинки — немає більше збоїв плити випікання, немає очікування стабілізації плити. Крім того, знижується енергоспоживання завдяки швидкому встановленню температури та точному регулюванню, що усуває перерегулювання і надлишковий холостий нагрів.
Якщо ви експлуатуєте лінії пакування, що потребують контрольованого нагріву для підготовки нанесення кристала, повторюваність підтримується постійною. Це зменшує кількість пустот і підвищує якість кріплення з першої спроби.
Декілька практичних зауважень перед встановленням. Нагрівач сумісний зі стандартними інтерфейсами обладнання, але теплову карту потрібно налаштувати відповідно до геометрії вашої плити та розташування датчиків під час монтажу. Потрібен короткий пусковий запуск для уточнення зміщень зон і меж рецепту.
Оптика потребує подачі чистого сухого повітря або азоту для стабілізації вихідної потужності. Скло слід розглядати як витратний матеріал і враховувати заміну у план технічного обслуговування.