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Temperatursensor für Wafer Werkzeuge

Fri, 17 Jul 2026 01:42:41 +0800

Infrarotbeheizung gegengehalten der Luftzufuhr – Was eignet sich eigentlich zum Heizen von Wafern?
Falls Sie darüber nachdenken, vom heißen Luftstrom zur Infrarotbeheizung für die Bearbeitung Ihrer Wafern überzugehen, geht es weniger darum, eine „bessere“ Wärmequelle zu finden, sondern vielmehr darum, wie die Energie tatsächlich auf das Silizium übertragen wird.

Bei der Luftzufuhr muss man abwarten, bis die Luft erhitzt ist – anschließend muss diese Luft wiederum die Wafer erhitzen. Das ist langsam und unpräzise.

Infrarot hingegen funktioniert anders: Es handelt sich dabei um Strahlung. Die Energie trifft direkt auf die Oberfläche der Wafer und bleibt dort. Es gibt keinen Mittelsmann.

Infrarotlampe für das Werkzeug von Applied Materials

Fri, 19 Jun 2026 02:21:54 +0800

In der Produktionsstätte ist das Erhitzen des Fotoleiters keine Pause – es ist vielmehr ein entscheidender Schritt im Herstellungsprozess. Temperaturunterschiede führen dazu, dass die Qualitätskontrolle nicht mehr möglich ist. Die Lampe geht aus, und die Produktion kommt zum Stillstand. Wir haben diese Infrarotlampe entwickelt, damit die Werkzeuge von Applied Materials solche Unsicherheiten vermeiden können.

Was wirklich wichtig ist: Die Lampe nutzt Kurzwelleninfrarotlicht, um eine schnelle, kontrollierbare Erwärmung zu erzielen. Dadurch kann man den Wärmebedarf sowohl bei der sanften als auch bei der intensiven Erhitzung gut steuern. Die Gleichmäßigkeit auf der Waferoberfläche liegt bei ±0,1°C – dadurch bleibt das Ergebnis von Charge zu Charge konstant. Die Lampe wird in Reinräumen der Klasse 1–100 eingesetzt; ihr Design sorgt dafür, dass keine Partikel entstehen, die die Qualität beeinträchtigen könnten. Der Quarzkörper sowie der speziell entwickelte Filament halten über Tausende von Stunden lang ihre Eigenschaften bei. Zudem passt die Lampe perfekt an die Anschlüsse und Halterungen des Werkzeugs an.

Infrarotlampenfassung für Wafer Werkzeug

Sat, 06 Jun 2026 01:17:42 +0800

Auf der Fertigungsebene reicht eine Drift von 2°C während des Photoresist-Backens aus, um eine große Menge als Ausschuss zu verzeichnen. Die Ausbeute ändert sich nicht, wenn man nur rät. Sie benötigen eine Temperaturregelung, die wie eine feste Konstante wirkt, nicht als weitere Variable.

Infrarotheizung: Submillimeter-Gleichmäßigkeit und Reproduzierbarkeit

Wir haben die Fassung der Infrarotlampe um ein stabiles NIR-Emissionsprofil und eine Geometrie gebaut, die das thermische Feld begrenzt. Das Ergebnis ist eine Wärmeverteilung über die Wafer-Ebene, die bis auf den Submillimeterbereich homogen ist, mit einer Wafer-Temperaturwiederholbarkeit, die eng genug ist, um Ihr thermisches Budget zu schützen.
In der Praxis bedeutet das, dass Softbake- und Hardbake-Profile innerhalb der Toleranz bleiben, die Linienbreitenkontrolle eingehalten wird und derselbe Sollwert Schicht für Schicht das gleiche Ergebnis liefert.