Lampe infrarouge pour le traitement de la wafer en verre

Fri, 03 Jul 2026 03:21:31 +0800

Sur le site de fabrication, le traitement des wafers en verre ne laisse pas de marge pour les variations thermiques. Une température de cuisson inférieure ou supérieure de 0,5 °C peut entraîner des variations dans l’épaisseur du photorésistant. De même, une cuisson insuffisamment uniforme peut provoquer des déformations du motif imprimé sur le wafer. Pour contrôler ces variations thermiques, les systèmes à lampes infrarouges sont la seule solution possible.

Ce qui est important en réalité Nous avons conçu des lampes infrarouges à ondes courtes spécifiquement pour le traitement des wafers en verre. Leur spectre de sortie est ajusté de manière à correspondre à une absorption minimale de chaleur, et elles permettent une régulation rapide de la température. Dans toute la zone de cuisson, l’uniformité de la température reste entre ±0,1 °C. La reproductibilité est telle que les valeurs Cp/Cpk restent stables même lors d’une utilisation continue. L’installation se fait dans des environnements propres de classe 1–100, avec une absence totale de particules, confirmée par un suivi en temps réel. La puissance de sortie reste stable pendant plus de 5 000 heures, avec des variations inférieures à 5 %.

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