वेफर सुखाने का मॉड्यूल 200 मिमी

Fri, 05 Jun 2026 01:29:21 +0800

200 मिमी लाइन पर, सफाई के बाद का सूखने का चरण वह स्थान है जहां एक छोटी तापमान विचलन वास्तविक उपज में समस्या बन जाती है। अवशिष्ट आर्द्रता और असमान हीटिंग किनारे के बीड, पैटर्न ढहने, और कण दोष के रूप में प्रकट होती है—फिर फैब को पुन: कार्य और स्क्रैप के लिए भुगतान करना पड़ता है। हमने 200 मिमी वेफर सूखने के मॉड्यूल का निर्माण किया ताकि उस परिवर्तनशीलता को स्रोत पर समाप्त किया जा सके, केवल समस्या पर गर्मी डालने के लिए नहीं।

तकनीकी दृष्टिकोण से क्या महत्वपूर्ण है यह मॉड्यूल 200 मिमी के पूरे क्षेत्र में ±0.1°C पर वेफर-स्तरीय तापीय एकरूपता बनाए रखता है, ताकि फोटोरेसिस्ट का व्यवहार सॉफ्ट बेक और हार्ड बेक के दौरान केंद्र से किनारे तक सुसंगत रहे। क्लीनरूम संगतता क्लास 1–100 के लिए इंजीनियर्ड है, सामग्री और वायु प्रवाह पथों को इस तरह से चुना गया है कि कण उत्पादन शून्य पर रहे। पुनरावृत्ति कोई दावा नहीं है—यह शिफ्ट-से-शिफ्ट स्थिरता में और लाइन वोल्टेज और बैच लोड बदलने पर सेटपॉइंट को बनाए रखने में प्रकट होती है। यह 24/7 विश्वसनीयता के साथ काम करता है जिसका लक्ष्य शून्य अप्रत्याशित डाउनटाइम है, और यह बिना थर्मल बजट को बढ़ाए ऐसा करता है—ऊर्जा उपयोग नियंत्रित है, बढ़ाया नहीं गया है।

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वेफर सुखाने का मॉड्यूल 200 मिमी