Di proses litografi, Anda tahu betul bahwa setiap perubahan kecil pada suhu pemanggangan pun dapat mengacaukan ketebalan lapisan fotoresist yang digunakan. Sedangkan ketidakteraturan suhu saat pemangganan yang ekstrem akan berdampak negatif pada kualitas produk akhir. Kami menciptakan lampu pemanas inframerah berjenis twin-tube untuk menghilangkan faktor ketidaktentuan termal tersebut.
Yang penting secara teknis:
Lampu inframerah berjenis twin-tube ini mampu memanaskan wafer dengan cepat, dan sistem penghubungnya yang efektif memastikan keseragaman suhu di seluruh permukaan wafer dalam rentang ±0,1°C selama proses berlangsung. Struktur kaca kuarsa dan reflektor yang digunakan memastikan profil radiasi yang konsisten. Bahan-bahan yang digunakan juga cocok untuk lingkungan ruang bersih, sehingga tidak ada partikel yang terbentuk saat proses berlangsung. Intensitas cahaya tetap stabil selama lebih dari 5.000 jam, dengan penyimpangan kurang dari 5%. Sistem ini dirancang untuk beroperasi 24/7 tanpa gangguan yang tidak terduga.
Mengapa sistem ini efektif dalam proses nyata:
Dalam proses pengolahan fotoresist, lampu ini sangat membantu menciptakan kondisi pemanggaran yang konsisten, sehingga dimensi-dimensi penting pada wafer tetap terkontrol. Respons termalnya yang cepat memungkinkan waktu pemanggaran yang lebih singkat, tanpa menyebabkan peningkatan suhu yang berlebihan. Stabilitas ini juga berlaku pada proses pengeringan dan penyembuhan wafer, di mana kontrol kadar kelembapan dan adanya rongga pada wafer sangat penting. Dengan demikian, jumlah limbah berkurang, dan kualitas produksi tetap konsisten dari satu shift ke shift lainnya.
Hal-hal yang perlu diperhatikan:
Lampu ini dapat dipasang pada modul oven dan pelat pemanggaran yang sudah ada, tetapi penyesuaian posisinya terhadap permukaan substrat sangatlah penting. Setiap penyimpangan kecil pun dapat menyebabkan perbedaan suhu yang signifikan. Pastikan menggunakan tegangan dan konektor yang sesuai untuk alat yang digunakan, serta aturlah proses pendinginan yang tepat setelah setiap siklus berakhir, agar integritas kaca kuarsa tetap terjaga.