
Nella fase di litografia, si sa bene che anche un piccolo cambiamento nella temperatura può influire negativamente sull’espessore del fotorestista. Inoltre, eventuali irregolarità nella distribuzione del calore possono portare a problemi durante il processo di produzione. Per evitare questi problemi, abbiamo progettato una lampada a riscaldamento a infrarossi a doppio tubo, in modo da eliminare ogni tipo di incertezza legata al calore.
Cosa è importante dal punto di vista tecnico
La lampada a doppio tubo a onde corte riscalda rapidamente i wafer, grazie a un sistema di riscaldamento diretto che mantiene l’uniformità della temperatura entro ±0,1°C durante tutto il processo. La geometria del rivestimento in quarzo e dei riflettori garantisce profili di irradiazione costanti, mentre i materiali utilizzati sono adatti all’uso in ambienti puliti, riducendo al minimo la formazione di particelle. L’intensità della luce rimane stabile per oltre 5.000 ore, con una variazione inferiore al 5%. Il sistema è progettato per funzionare 24/7, senza interruzioni impreviste.
Perché è utile nei processi reali
Nel processo di trattamento del fotorestista, questa lampada permette di ottenere profile di riscaldamento uniformi, fondamentali per mantenere sotto controllo le dimensioni dei wafer. La risposta termica è abbastanza rapida da permettere di ridurre i tempi di riscaldamento, senza però superare i limiti previsti. Questa stabilità è utile anche nelle fasi di essiccazione e cura dei wafer, dove è fondamentale mantenere una temperatura costante per evitare problemi legati all’umidità e alle bolle d’aria presenti nei wafer. Di conseguenza, si ottengono risultati più precisi, meno scarti e prestazioni costanti da un turno all’altro.
Cose su cui bisogna fare attenzione
La lampada può essere integrata nei moduli di cottura esistenti, ma l’allineamento rispetto al piano del substrato è fondamentale. Anche un piccolo scostamento può causare delle irregolarità. È necessario scegliere la tensione e il connettore giusti per lo strumento utilizzato, e prevedere un sistema di raffreddamento efficace alla fine di ogni ciclo, al fine di mantenere intatta l’integrità del quarzo.