Sistema di produzione a infrarossi industriale personalizzato

Wed, 17 Jun 2026 11:36:10 +0800

Nelle linee di produzione, si sa bene come funzionano le cose: una variazione di 0,5°C nella temperatura di cottura può causare modifiche nelle dimensioni critiche dei componenti, con conseguente produzione di materiale scartato. Quello che serve è un sistema di riscaldamento affidabile, ciclo dopo ciclo, anche quando ci sono condizioni particolari legate all’ambiente di lavoro, alla geometria dei wafer e ai tempi di lavorazione richiesti dalla litografia.

Cosa è importante nel sistema di riscaldamento
Abbiamo progettato il sistema utilizzando sorgenti a infrarosso vicino (NIR), dotate di una risposta spettrale precisa. In questo modo si ottiene un riscaldamento rapido e senza contatto diretto con i componenti da riscaldare. L’uniformità termica su tutta la superficie del wafer rimane entro ±0,1°C, mentre la precisione delle impostazioni di riscaldamento è altrettanto elevata. Il sistema è adatto per ambienti di tipo 1–100, e la zona di riscaldamento riduce al minimo la generazione di particelle. I profili di riscaldamento permettono un controllo preciso della temperatura, mantenendo così costanti le dimensioni dei componenti e riducendo i difetti produttivi.

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Sistema di produzione a infrarossi industriale personalizzato