W procesie litografii obowiązują określone zasady: nawet niewielka odchylenia w temperaturze mogą wpłynąć na grubość warstwy fotorezystu. A co z nieregularnościami podczas procesu hartowania? To przekłada się na spadek jakości produktu. Stworzyliśmy lampę grzewczą o podwójnych rurkach, która eliminuje te problemy.
Co jest istotne pod względem technicznym Lampa o podwójnych rurkach szybko nagrzewa powierzchnię płytki krzemowej, dzięki czemu temperatura pozostaje w przedziale ±0,1°C przez cały czas trwania procesu. Kwarcowa obudowa oraz specjalna geometria reflektorów zapewniają stałe parametry termiczne. Materiały użyte do budowy lampy są przyjazne dla środowiska czystego, więc po osiągnięciu stanu równowagi nie dochodzi do tworzenia się cząstek. Wydajność lampy jest stabilna przez ponad 5 000 godzin – odchylenia intensywności światła wynoszą mniej niż 5%. System może pracować 24/7 bez przerw.
Dlaczego ta lampa sprawdza się w praktyce W procesie obróbki fotorezystu ta lampa umożliwia uzyskanie konsekwentnych parametrów termicznych, co jest kluczowe dla precyzyjnego kontrolowania wymiarów płytki krzemowej. Reakcja termiczna jest dostatecznie szybka, aby skrócić czas obróbki, bez konieczności przekroczenia wyznaczonych limitów. Ta sama stabilność sprawdza się również podczas suszenia i utwardzania płytek krzemowych – kontrola wilgoci i pustek zależy od przewidywalnego wzrostu temperatury. Dzięki temu zmniejsza się ilość odpadów i poprawia się jakość produktu.
Na co należy zwrócić uwagę Lampa można zainstalować w istniejących modułach piecowych, ale jej ustawienie względem powierzchni płytki krzemowej jest niezbędne. Nawet małe odchylenia mogą powodować nieregularności w temperaturze. Należy wybrać odpowiednią moc i typ połączenia dla danego urządzenia, a także zaplanować kontrolowany proces chłodzenia po zakończeniu każdego cyklu, aby zachować integralność kwarcowej obudowy.