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Sensor de temperatura para ferramenta de wafer

Fri, 17 Jul 2026 01:42:41 +0800

Aquecimento por radiação infravermelha vs. ar forçado: qual método realmente funciona para o processamento de wafers?
Se você está pensando em substituir o ar quente pelo aquecimento por radiação infravermelha no processamento de wafers, não se trata tanto de encontrar uma fonte de calor “melhor”, mas sim de saber como transferir essa energia para o silício de maneira eficaz.

Com o ar forçado, você precisa esperar que o ar se aqueça antes que ele consiga aquecer o wafer. É um processo lento e complicado.

Lâmpada infravermelha para ferramentas da Applied Materials

Fri, 19 Jun 2026 02:21:54 +0800

Na linha de produção, o processo de secagem do fotorresistente não é uma pausa – é, na verdade, um passo essencial no processo de fabricação. Qualquer variação de temperatura faz com que o controle de precisão do equipamento deixe de funcionar corretamente. A lâmpada se desliga, e a linha de produção para. Criamos essa lâmpada a laser infravermelho para que os equipamentos da Applied Materials possam eliminar essa incerteza no processo de produção.

O que é importante por trás disso tudo
Ela utiliza luz infravermelha de onda curta para fornecer calor rápido e controlável, permitindo assim manter um controle preciso da temperatura durante ambos os processos de secagem. A uniformidade em nível de wafer fica dentro de ±0,1°C, o que garante que o resultado seja consistente de lote em lote. Ela funciona em ambientes classificados como Classe 1–100, com um design que minimiza a presença de partículas indesejadas durante cada ciclo de secagem. O invólucro de quartzo e o filamento especial mantêm sua eficiência ao longo de milhares de horas de uso. Além disso, sua interface é compatível com o conector e o suporte do equipamento.

Soquete de lâmpada infravermelha para ferramenta de wafer

Sat, 06 Jun 2026 01:17:42 +0800

No chão de fábrica, uma deriva de 2°C durante o bake do fotoresiste é suficiente para descartar uma grande quantidade. O rendimento não varia quando você está no escuro. É necessário um controle térmico que funcione como uma constante fixa, não como mais uma variável.

Aquecimento por infravermelho: uniformidade e repetibilidade submilimétrica

Construímos o soquete da lâmpada infravermelha em torno de um perfil estável de emissão NIR e uma geometria que limita o campo térmico. O resultado é uma distribuição de calor no plano da pastilha uniforme até submilímetros, com repetibilidade de temperatura a nível de pastilha suficientemente rigorosa para proteger seu orçamento térmico. Na prática, isso significa que os perfis de soft bake e hard bake permanecem dentro da especificação, o controle de largura de linha se mantém, e o mesmo setpoint produz o mesmo resultado, turno após turno.