ในกระบวนการผลิตด้วยเทคโนโลยีลิโธกราฟีนั้น คุณคงรู้ดีว่าการอบแบบอ่อนนั้นมีความสำคัญมาก เพราะแม้แต่การเปลี่ยนแปลงอุณหภูมิเพียงเล็กน้อยก็สามารถทำให้ความหนาของสารโฟโตเรซิสต์เปลี่ยนไปได้ ส่วนการอบแบบแข็งนั้น หากมีความไม่สม่ำเสมอเกิดขึ้น ก็จะส่งผลให้ประสิทธิภาพการผลิตลดลง เราจึงออกแบบหลอดเลี้ยงความร้อนแบบอินฟราเรดสองหลอดขึ้นมา เพื่อลดความไม่แน่นอนทางด้านอุณหภูมิไปเลย
สิ่งที่สำคัญทางเทคนิค
หลอดเลี้ยงความร้อนแบบอินฟราเรดสองหลอดนี้สามารถให้ความร้อนได้อย่างรวดเร็ว โดยมีการเชื่อมต่อโดยตรง ทำให้อุณหภูมิบน Wafer มีความสม่ำเสมออยู่ในช่วง ±0.1°C ตลอดกระบวนการผลิต นอกจากนี้ โครงสร้างของเปลือกควอตซ์และตัวสะท้อนแสงยังช่วยให้ได้โปรไฟล์ของความร้อนที่สม่ำเสมอ และวัสดุที่ใช้ก็เหมาะสมสำหรับการใช้งานในห้องปลอดภัย ทำให้ไม่มีการเกิดอนุภาคขึ้นเลยเมื่ออยู่ในสภาวะสม่ำเสมอ ประสิทธิภาพการให้ความร้อนจะคงที่ตลอดเวลามากกว่า 5,000 ชั่วโมง โดยมีการเปลี่ยนแปลงความเข้มของแสงน้อยกว่า 5% และระบบนี้สามารถทำงานได้ตลอด 24/7 โดยไม่มีการหยุดทำงานโดยไม่คาดคิด
เหตุผลที่ระบบนี้เหมาะสำหรับการใช้งานจริง
ในกระบวนการผลิตโฟโตเรซิสต์ หลอดนี้ช่วยให้สามารถควบคุมอุณหภูมิในการอบได้อย่างสม่ำเสมอ ทำให้สามารถควบคุมขนาดของ Wafer ได้อย่างแม่นยำ นอกจากนี้ การตอบสนองทางด้านอุณหภูมิก็รวดเร็วพอที่จะลดเวลาการอบได้ โดยไม่ทำให้อุณหภูมิสูงเกินไป ดังนั้นจึงสามารถเพิ่มอัตราการผลิตได้ โดยไม่ส่งผลเสียต่อคุณภาพของ Wafer ความสม่ำเสมอนี้ยังส่งผลดีต่อกระบวนการอบและการแห้งในขั้นตอนการบรรจุด้วย เพราะการควบคุมความชื้นและสภาพแวดล้อมจะขึ้นอยู่กับอุณหภูมิที่สม่ำเสมอ ผลลัพธ์ก็คือการลดจำนวนของวัสดุที่เสียหาย และประสิทธิภาพการผลิตที่สม่ำเสมอในทุกช่วงเวลา
สิ่งที่ควรให้ความสำคัญ
หลอดนี้สามารถนำมาใช้ร่วมกับเครื่องอบที่มีอยู่ได้ แต่การปรับตำแหน่งให้ตรงกับพื้นผิวของ Wafer นั้นเป็นสิ่งสำคัญมาก แม้แต่การเบี่ยงเบนเล็กน้อยก็สามารถส่งผลให้เกิดความแตกต่างของอุณหภูมิได้ ควรเลือกแรงดันไฟฟ้าและขั้วต่อที่เหมาะสมสำหรับเครื่องมือของคุณ และควรมีระบบทำความเย็นที่เหมาะสมหลังจากแต่ละรอบการอบ เพื่อรักษาคุณภาพของควอตซ์ไว้