Hentikan proses pemanasan dinding ruang tersebut.
Jika Anda pernah menggunakan sistem pemanasan konvensional atau omnidireksional di ruang pengolahan semikonduktor, Anda pasti tahu betapa menyebalkannya hal tersebut. Anda berusaha memanaskan wafer, tetapi yang terjadi justru seluruh bagian di sekitar wafer ikut panas. Dinding-dinding dalam ruangan pun menjadi sangat panas, sementara komponen-komponen mesin juga rusak. Para pekerja pun harus berhati-hati karena adanya risiko bahaya yang besar. Ini merupakan pemborosan energi dan merepotkan bagi semua pihak yang terlibat.
Kami menangani masalah ini dengan cara yang berbeda. Kami menggunakan lampu inframerah yang mampu mengarahkan energi tepat ke tempat yang dituju, yaitu langsung ke wafer.
Cara kerjanya:
Bayangkanlah pemanas resistif. Pemanas jenis ini memancarkan panas ke segala arah, 360 derajat. Hal ini tentu tidak efektif. Lampu inframerah kami menggunakan reflektor dan penyetelan panjang gelombang tertentu agar energi dapat dialihkan ke arah yang diinginkan. Dengan demikian, panas hanya akan sampai ke wafer saja, sedangkan bagian lain dari mesin tetap dingin.
Kekurangan dan cara mengatasinya:
Lampu ini memiliki daya yang sangat tinggi. Artinya, Anda perlu memastikan bahwa sistem pendinginan berfungsi dengan baik. Jika penyetelan reflektor salah atau kotor, panas akan merambat ke dinding-dinding ruangan lagi. Kuncinya adalah menyetel panjang fokus lampu dengan tepat, sehingga panas hanya sampai ke wafer saja.
Dampaknya bagi operasional harian:
Pertama-tama, mesin pendingin di fasilitas Anda tidak perlu bekerja keras lagi. Selain itu, profil suhu pada wafer menjadi lebih stabil, sehingga kualitas proses pengolahan pun meningkat. Perawatan mesin juga menjadi lebih mudah. Anda tidak perlu khawatir akan panas yang merambat ke dinding-dinding mesin saat Anda ingin memperbaiki sesuatu di dalamnya.
Perhatian terkait kabel-kabel: Pastikan suplai daya mampu menangani beban awal yang tinggi. Lampu ini akan langsung menghasilkan output penuh, tanpa membutuhkan waktu untuk memanas seperti elemen pemanas keramik biasa.
Ini merupakan tantangan tersendiri. Anda mendapatkan siklus pengolahan yang lebih cepat, tetapi Anda perlu menyetel kontroler PID agar responsnya cepat, sehingga suhu tidak melebihi batas yang diinginkan.