つまり、性能の高い半導体用加熱要素を探しているわけですが、高額な価格を支払いたくないということですね。 では、実際に私たちの赤外線ヒーターがその役割を果たせるかどうかが問題です。 私たちが開発した真空オーブン用の加熱要素は、そのまま取り付け替えられるように設計されています。高度な製造プロセスで必要とされる厳しい熱条件にも対応できますが、通常の高価格はかかりません。 具体的な特徴を見てみましょう。 この装置の中心にあるのは、300mmのハロゲン赤外線管です。これは、狭いチャンバー内にも収まるように特別に設計されています。400Vで動作し、2500Wの出力を発揮します。このような高出力密度は、小型ながらも非常に速く高温になることを意味します。 この迅速な温度上昇は、真空処理において非常に重要です。しかし、注意すべき点もあります。その高い出力には、冷却システムが十分に対応できる必要があります。正しい電圧と出力を調整することが、大手メーカー製品に匹敵する性能を得るための基本条件です。 構造自体が優れています。 私たちは、内部にハロゲンフィラメントを持つ石英管を使用しています。ハロゲンフィラメントの利点は、フィラメントが常に清潔に保たれるため、装置の寿命が長くなることです。また、石英製の外装は、熱衝撃にも耐えられ、真空状態でも安定して機能します。 R7sコネクタを選んだ理由もあります。これにより、高電流にも耐えられるしっかりとした2点接続が実現され、何度繰り返されても接続が緩んだり過熱したりすることはありません。これは、何度でも使える頑丈な装置です。 では、現場での利点は何でしょうか？ 真空オーブンでは、素早く均一に熱を供給することが必要です。ハロゲン赤外線は、エネルギーを必要な場所に集中させるので、理想的です。300mmの長さにより、チャンバー全体に均一に熱が行き渡ります。 エンジニアとしては、これによりサイクル時間が短縮され、毎回安定した温度が得られます。 そして最良な点は、設置が非常に簡単だということです。ただ配線を接続すれば、すぐに使えます。私たちは、この装置を大手メーカー製品に匹敵する性能を持つように設計しました。つまり、半導体レベルの加工に必要な熱性能を、手頃な価格で提供できるのです。