Litografi işlemlerinde, poliimid tabakaların hafifçe de olsa ısınması bile çizgi genişliği kontrolünü ve verimi bozabilir. Wafer üzerindeki termal düzensizlikler oldukça maliyetlidir. Bu sorunu aşmak için, onunla mücadele etmek yerine bir kızılötesi lamba geliştirdik.
Önemli olan noktalar
Lamba, hızlı ve stabil ısıtma için kısa dalga boyundaki kızılötesi ışığı kullanır. Önemli olan parametre, ısıtma bölgesindeki sıcaklık düzenliliğidir; bu da kapalı döngü kontrolü ve termal gecikmeyi azaltan kuvars bazlı tasarım sayesinde sağlanır. Bu sistem, Class 1–100 temiz odalar için uygundur ve kullanılan malzemeler ile yapı, parça üretimini mümkün olduğunca sıfıra yakın tutar. Yumuşak ve sert ısıtma modları tekrarlanabilir hale gelir; ayar noktalarının hızlı bir şekilde geri kazanılması sayesinde termal dengenin korunması sağlanır.
Üretimdeki faydaları
Günlük işlemlerde bu lamba, daha az hata oluşmasını, daha tutarlı sonuçlar elde edilmesini sağlar. Sürecin tekrarlanabilir olması sayesinde belgelenmiş veriler elde edilir ve güvenilir bir çalışma süresi sağlanır. Isı, ihtiyaç duyulan yere gider; böylece odanın ısınması için enerji israf edilmez. Gelişmiş node’lardaki poliimid katmanları için bu kontrol, daha az yeniden işleme, daha az atık ve planlanabilir işlem süreleri anlamına gelir.
Pratik detaylar
Lambanın montajı, lambanın odanın geometrisine uyumlu hale getirilmesi ve wafer yüzeyine net bir görüş açısı sağlanmasıyla yapılır. Ayrıca, temiz oda koşullarının korunması için yanındaki ekipmanların kızılötesi ısıdan korunması gerekmektedir. Lamba, ısıtma ayarları onun tepki süresine göre yapıldığında en iyi performansı gösterir. Uzun vadeli düzenliliği sağlamak için düzenli olarak yoğunluk kontrolü yapılmalıdır.