Přestaňte zahřívat stěny komory Pokud jste někdy pracovali s běžným konvekčním nebo všesměrným ohřevem v polovodičové komoře, víte, jaké to je...

Udržování čistoty waferů při sušení (a vysoká úrovně výnosů) Když sušíte wafery senzorů typu MEMS v prostředí s úrovní čistoty Class 100, nemůžete si...

Ohřev pomocí infračerveného záření oproti ventilovanému vzduchu: Který způsob je skutečně vhodný pro zpracování destiček? Pokud uvažujete o přechodu...

Jak dosáhnout vyšší teploty na vašich destičkách Při zahřívání křemíkových destiček vlastně bojujete proti ztrátám energie. Problém u běžných...

Bezpečné použití infračervených ohřívačů v prostředích s nestabilními chemikáliemi Buďme upřímní: čištění čipů je rizikový proces. Jedná se o hořlavé...

V provozu na výrobě skleněných destiček neexistuje prostor pro termické odchylky. Pokud je teplota při zpracování destiček o 0,5 °C od cílové...

Na výrobní lince je odchylka 2 °C během pečení fotorezistu dostatečná na to, aby se celá šarže vyřadila. Výnos se nezvyšuje, pokud pouze hádáte....

Na lince 200 mm je sušení po čištění místem, kde malý odchylka teploty přechází do skutečných problémů s výnosy. Zbytková vlhkost a nerovnoměrné...