
Di fasilitas produksi, proses pemrosesan wafer kaca tidak memungkinkan adanya penyimpangan suhu. Jika suhu selama proses “soft bake” menyimpang sebesar 0,5°C saja, maka akan timbul perbedaan ketebalan lapisan fotoresist. Sedangkan jika proses “hard bake” tidak dilakukan dengan presisi yang tinggi, maka akan terjadi kerusakan pada pola yang dibuat. Untuk mengendalikan suhu secara efektif, sistem lampu inframerah merupakan satu-satunya cara yang digunakan.
Apa yang penting dalam proses ini? Kami membuat lampu inframerah berfrekuensi rendah khusus untuk digunakan pada wafer kaca. Lampu tersebut diatur sedemikian rupa sehingga output spektralnya sesuai dengan karakteristik penyerapan panas yang rendah, serta dapat menyesuaikan suhu dengan cepat. Di area proses pengeringan, tingkat keseragaman suhu pada setiap wafer tetap berada dalam kisaran ±0,1°C. Rekurensi proses juga dikontrol agar nilai Cp/Cpk tetap stabil meski digunakan secara terus-menerus. Fasilitas ini dirancang untuk digunakan di ruang bersih kelas 1–100, dengan tingkat partikel yang sama sekali tidak ada, sebagaimana yang ditunjukkan oleh sistem pemantauan partikel secara real-time. Intensitas cahaya dari lampu tetap stabil selama lebih dari 5.000 jam, dengan penyimpangan intensitas kurang dari 5%.
Mengapa hal ini penting dalam proses litografi? Dalam proses litografi, hal ini berarti proses “soft bake” dan “hard bake” yang konsisten pada substrat kaca, kontrol toleransi yang lebih baik, serta tingkat cacat yang lebih rendah. Prosesnya pun menjadi lebih cepat, energi yang digunakan per batch berkurang, dan jumlah wafer yang rusak berkurang. Sistem ini juga kompatibel dengan format wafer standar, sehingga proses produksi tetap berjalan lancar sementara kinerja termalnya ditingkatkan.
Apa yang perlu diperhatikan saat pemasangan? Pemasangan lampu ini memerlukan penyetelan optik yang tepat serta sistem pengelolaan suhu yang efektif. Jika sistem pendinginan tidak sesuai atau geometri reflektor tidak tepat, maka tingkat keseragaman suhu akan menurun. Output lampu sangat sensitif terhadap stabilitas kabel penghubungnya, sehingga diperlukan pasokan listrik yang stabil. Diperlukan waktu sedikit lebih lama untuk kalibrasi, namun setelah itu, proses pengeringan akan berjalan secara konsisten, sehingga waktu henti produksi berkurang dan pemeliharaan tidak perlu dilakukan selama proses produksi berlangsung.