Dalam proses litografi, kita tahu bahawa suhu yang tidak konsisten boleh mengganggu ketebalan lapisan fotoresist. Jika suhu tidak stabil, maka kualiti hasil pengeluaran akan terjejas. Oleh itu, kami mencipta lampu pemanas inframerah berjenis dua tiub ini untuk mengurangkan masalah berkaitan suhu tersebut.
Apa yang penting dari segi teknikalnya
Lampu pemanas inframerah berjenis dua tiub ini mempunyai keupayaan untuk memanaskan bahan dengan cepat, dan sistem kawalan suhu yang efektif memastikan ketepatan suhu pada tahap ±0.1°C sepanjang proses pengeluaran. Struktur kuarsa dan reflektor yang digunakan membantu mencapai profil radiasi yang konsisten. Bahan-bahan yang digunakan juga sesuai untuk bilik bersih, sehingga penghasilan zarah-zarah berbahaya dapat dielakkan. Output lampu ini tetap stabil selama lebih dari 5,000 jam, dengan perubahan intensiti kurang dari 5%. Sistem ini direka untuk beroperasi 24/7 tanpa gangguan.
Mengapa ia berguna dalam proses sebenar
Dalam proses penggunaan fotoresist, lampu ini sangat penting kerana ia membantu mencapai suhu yang konsisten semasa proses pemanggangan. Ini memastikan dimensi bahan tetap terkawal, dan kualiti permukaan bahan tetap baik. Respons termal yang cepat membolehkan masa pemanggangan dikurangkan, tanpa menyebabkan kesilapan. Stabiliti ini juga membantu dalam proses pengeringan dan penyembuhan bahan, di mana kawalan kelembapan dan rongga sangat penting. Hasilnya, lebih sedikit bahan yang rosak, dan prestasi tetap konsisten dari satu syif ke syif yang lain.
Apa yang perlu diperhatikan
Lampu ini boleh digunakan dalam modul ketuhar sedia ada, tetapi penyesuaian sudut lampu terhadap permukaan bahan adalah sangat penting. Walaupun perbezaan sudut yang kecil pun boleh menyebabkan perubahan ketara pada suhu. Pastikan voltan dan sambungan yang digunakan sesuai untuk alat tersebut. Selain itu, pastikan sistem penyejukan berfungsi dengan baik setiap kali proses selesai, agar integriti kuarsa tidak terjejas.