製造現場において、ガラスウェーハの処理では、熱変動を許容する余地はありません。たとえ0.5℃程度の温度偏差があっても、フォトレジストの厚みのばらつきが生じてしまいます。また、均一性が保てない場合は、パターンが崩れる可能性があります。熱管理を正確に行うためには、赤外線ランプシステムが最適な手段です。
重要なポイント 私たちは、ガラス用に特化した短波長赤外線ランプを開発しました。このランプは、低熱容量物質への吸収特性に合わせて調整されており、迅速に温度を制御できます。ウェーハ全体の均一性は±0.1℃以内に保たれ、連続使用時でもCp/Cpkの値が安定しています。また、クラス1～100のクリーンルーム環境で使用可能であり、インサイト粒子監視により粒子の発生がないことが確認されています。出力は5,000時間以上にわたって安定し、強度の変動は5％未満です。
リソグラフィーにおける利点 リソグラフィーラインにおいては、これによりガラス基板上でのソフトベイクやハードベイクのプロファイルが安定し、CDの制御が向上し、欠陥密度が低下します。また、設定温度への到達時間が短縮され、1回の処理にかかるエネルギーも減少し、廃棄されるウェーハの数も少なくなります。標準的なウェーハサイズに対応し、既存の工程やコーティング/ベイクモジュールに組み込むことができるため、熱性能を向上させつつも工程の流れを維持できます。
設置時の注意点 設置時には、正確な光学的位置合わせと適切な熱管理が不可欠です。冷却装置が不適切だったり、反射器の形状が不正確だと、均一性が失われます。また、ランプの出力は配線の安定性に敏感ですので、清潔で安定した電源を使用する必要があります。初期の校正には少し時間がかかりますが、その後は再現性が保たれ、稼働停止時間が短縮され、メンテナンスの必要もなくなります。