リソグラフィーの工程においては、ポリイミドの加熱処理が少しでも不安定になると、線幅の制御や歩留まりに悪影響を与えます。ウエハ全体にわたる温度の不均一性は、大きな問題となります。そうした制約に対処するために、私たちは赤外線ランプを開発しました。これにより、その制約に立ち向かうのではなく、それをうまく利用することができます。
重要な点 このランプは、迅速かつ安定した加熱のために短波長の赤外線を利用しています。重要なのは、加熱領域全体での温度のばらつきを±0.1℃以内に抑えることです。これは、ループ制御とクォーツを用いた放射設計によって実現されており、 thermal lagを最小限に抑えています。また、このランプはクラス1～100のクリーンルーム環境にも適しており、使用される材料や構造によって粒子の発生を可能な限り抑えています。ソフトベイクとハードベイクのプロファイルも再現性が高く、設定値の回復も速いため、熱的な安定性を保つことができます。
なぜこれが生産に役立つのか 日常の運用において、このランプを使えば、プロセスのばらつきが減少し、ウエハ全体の性能が均一になります。また、記録可能な再現性の高いプロセスが実現し、信頼性の高い稼働時間が得られます。熱は必要な場所にのみ行き渡るため、チャンバー内を無駄に加熱することもありません。先端ノードでのポリイミド層の加工においては、この制御によって再作業や廃棄物が減少し、スケジュールをしっかりと計画できます。
実用的な詳細 設置時には、ランプをチャンバーの形状に合わせて調整し、ウエハ表面がしっかりと見えるようにする必要があります。また、クリーンルーム内の温度バランスを保つために、周辺の機器を赤外線から守る必要もあります。 ランプは、加熱条件をその応答速度に合わせて調整した場合に最も性能を発揮します。また、長期的な均一性を維持するために、定期的に強度を確認する必要があります。