Di fasiliti pengeluaran cip kaca ini, proses pemprosesan wafer kaca tidak membenarkan sebarang perubahan suhu yang ketara. Jika suhu semasa proses pembakaran berbeza sebanyak 0.5°C daripada nilai yang ditetapkan, ia akan menyebabkan variasi ketebalan lapisan fotorezist. Tanpa kawalan suhu yang tepat, proses pembakaran akan gagal, dan ini akan menyebabkan masalah pada struktur cip tersebut. Untuk mencapai kawalan suhu yang baik, sistem lampu inframerah merupakan satu-satunya cara yang efektif.
Apa yang penting dalam proses ini
Kami telah membina lampu inframerah berfrekuensi rendah khusus untuk penggunaan pada wafer kaca. Lampu ini direka agar output spektrumnya sesuai dengan keperluan penyerapan haba yang rendah, serta mampu menyesuaikan suhu dengan cepat. Di kawasan pembakaran, ketepatan suhu pada setiap wafer adalah sekitar ±0.1°C, dan kebolehulangan prosesnya dapat dipastikan agar Cp/Cpk tetap stabil walaupun digunakan secara berterusan. Fasiliti ini juga sesuai untuk digunakan dalam persekitaran bilik bersih kelas 1–100, dengan pengesahan bahawa tiada zarah debu dihasilkan melalui pemantauan secara langsung. Intensiti cahaya lampu tetap stabil selama lebih dari 5,000 jam, dengan perubahan intensiti yang kurang dari 5%.
Mengapa ia penting dalam proses litografi
Dalam proses litografi, ini bermakna proses pembakaran yang konsisten pada substrat kaca, kawalan ketepatan CD yang lebih baik, serta pengurangan kecacatan pada cip. Proses ini juga membolehkan masa yang lebih singkat untuk mencapai titik suhu yang ditetapkan, penggunaan tenaga yang lebih sedikit, serta pengurangan jumlah wafer yang rosak. Selain itu, sistem ini juga sesuai digunakan dengan format wafer standard, serta boleh digabungkan dengan modul penebalan lapisan/keluliwa sedia ada. Dengan cara ini, aliran proses pengeluaran dapat dipertahankan sambil memastikan prestasi termal yang optimal.
Apa yang perlu diperhatikan semasa pemasangan
Pemasangan lampu ini memerlukan penyesuaian optik yang tepat, serta sistem pengurusan suhu yang efektif. Jika sistem penyejukan tidak berfungsi dengan baik atau geometri reflektor tidak tepat, ketepatan suhu akan terjejas. Output lampu sangat sensitif terhadap stabiliti litar elektrik, jadi bekalan kuasa yang stabil sangat penting. Waktu yang diperlukan untuk kalibrasi mungkin agak lama, namun setelah itu, proses pembakaran akan menjadi konsisten, sehingga mengurangkan masa henti operasi dan meminimumkan intervensi penyelenggaraan.