리소그래피 공정에서는 알다시피, 약한 열처리조차도 포토레지스트의 두께를 제어하기 어렵게 만듭니다. 반면, 강한 열처리의 경우에는 균일성이 떨어져 결국 제품의 품질에 영향을 미칩니다. 이러한 문제들을 해결하기 위해 저희는 이중관 구조의 적외선 가열램프를 개발했습니다.
기술적으로 중요한 점 이중관 구조의 단파 적외선 램프는 빠르게 가열될 뿐만 아니라, 웨이퍼 전체의 온도를 ±0.1°C 이내로 유지해줍니다. 석영 커버와 반사체의 구조 덕분에 일관된 가열 프로파일이 유지되며, 클린룸에 적합한 재료들 덕분에 안정된 상태가 유지됩니다. 5,000시간 이상 사용해도 출력의 변동은 5% 미만이며, 24/7 연속 가동이 가능합니다.
실제 공정에서의 장점 포토레지스트 처리 과정에서 이 램프는 일관된 열처리를 가능하게 해주어, 치수 제어가 정확해지고 웨이퍼의 가장자리 부분도 잘 관리됩니다. 빠른 열 반응 덕분에 가열 시간을 단축할 수 있으며, 고급 웨이퍼 처리 시에도 열 관리가 용이해집니다. 이러한 안정성은 포장 공정에서도 마찬가지로 유용하며, 예측 가능한 온도 변화 덕분에 습기나 기공 문제를 줄일 수 있습니다. 그 결과, 불량률이 줄어들고, 매번 일관된 성능을 얻을 수 있습니다.
주의해야 할 사항 이 램프는 기존의 오븐 모듈이나 베이킹 플레이트에도 사용할 수 있지만, 기판 표면과의 정확한 정렬이 필수적입니다. 약간의 오차라도 측정 가능한 그라디언트로 나타날 수 있습니다. 따라서 자신의 장비에 맞는 적절한 전압과 커넥터를 선택해야 하며, 각 주기가 끝날 때마다 석영의 손상을 방지하기 위해 적절한 냉각이 필요합니다.